北方华创“一种进气管的清洗方法及半导体工艺设备”专利公布

发表于:2024-10-25 来源:半导体产业网 编辑:

天眼查显示,北京北方华创微电子装备有限公司“一种进气管的清洗方法及半导体工艺设备”专利公布,申请公布日为2024年9月24日,申请公布号为CN118692884A。

本申请公开了一种进气管的清洗方法及半导体工艺设备,进气管作为等离子体发生腔,并用于向工艺腔室通入等离子体以对晶圆进行工艺,清洗方法包括:在每完成预设数量的晶圆的工艺后,向进气管通入第一清洗气体,并加载射频功率以激发第一清洗气体;控制进气管内的气压在第一预设压力维持第一预设时间,以及在第二预设压力维持第二预设时间,第一预设压力与第二预设压力的比值大于等于6且小于等于14,第一预设时间与第二预设时间的比值大于等于0.5且小于等于2。本申请通过对进气管进行批次间清洗,可以对杂质颗粒进行清洗,避免产生花状缺陷,由于析晶得到及时清洗,不需要经常停机更换进气管,延长了进气管的寿命,成本降低,提高了生产率。