IFWS 2025 碳化硅材料生长及应用进展

发表于:2025-11-17 来源:半导体产业网 编辑:

 11月11-14日,由第三代半导体产业技术创新战略联盟(CASA)、中关村半导体照明工程研发及产业联盟(CSA)、厦门大学(XMU)共同主办的第十一届国际第三代半导体论坛(IFWS)&第二十二届中国国际半导体照明论坛(SSLCHINA)于厦门召开。

现场2

现场5

期间,北京北方华创微电子装备有限公司协办的“碳化硅材料生长及应用”分论坛上,来自产业链相关专家、高校科研院所及知名企业代表共同深入探讨,追踪最新进展。 日本九洲大学教授西澤伸一,浙江大学教授、‌浙江大学杭州国际科创中心先进半导体研究院院长皮孝东,山东大学特聘教授,南砂晶圆董事陈秀芳共同主持了该分论坛。

 西泽伸一

西澤伸一

日本九洲大学教授

 皮孝东

皮孝东

浙江大学教授、‌浙江大学杭州国际科创中心先进半导体研究院院长

 won jae lee

Won-Jae LEE

韩国东义大学教授、釜山电力半导体研究所所长

《高品质、低成本大规模生长碳化硅晶体的研究进展》

陈秀芳 

陈秀芳

山东大学特聘教授,南砂晶圆董事

《8/12英寸碳化硅单晶研究进展》

 梁蓬霞

梁蓬霞

京东方科技集团股份有限公司光学设计研发部部长

《光波导显示技术的机遇与挑战》

 李仕群

李仕群

北京北方华创微电子装备有限公司化合物行业营销总裁

《同芯共赢 以装备创新推动第三代半导体产业蓬勃发展》

 李哲洋

于乐   

北京智慧能源研究院外延材料研究室负责人  

《面向高压应用的碳化硅外延技术研究》

 李斌

李斌

中电科半导体材料有限公司副总经理、山西烁科晶体有限公司董事长

《全球SiC材料市场现状及未来发展趋势》

 王蓉

王蓉

浙江大学研究员

《300微米级碳化硅超厚外延薄膜的掺杂与缺陷调控》

 裴弈成

裴弈成

中国科学院半导体研究所

《温度对固态源SiC薄膜生长的影响》

 侯新悦

侯新悦

山东大学

《4H-SiC 单晶中微管的起源、演化与终止:与籽晶背面反应引起的缺陷的相关性》 

(会议内容详情,敬请关注半导体产业网、第三代半导体公号)