超芯星在碳化硅材料热管理领域实现重大技术突破

发表于:2025-12-04 来源:半导体产业网 编辑:

 在算力持续攀升的科技进程中,高效散热已成为提升芯片性能的关键。超芯星宣布,在碳化硅衬底材料新技术上取得一项重要进展:经客户方采用专业设备严格测试,产品展现出卓越的热管理性能,热导率数据达到560W/(m·K),重新定义碳化硅材料性能标杆。

 

关于此数据的背景与意义

在材料科学领域,高纯度碳化硅(SiC),在室温附件的典型理论热导率值普遍被认知在420-490W/(m·K)范围内。我公司产品所实现的测试结果,标志着我们在特定技术路径下,将材料的实测热导率推向了业界前所未有的高水平!

此项突破的技术价值与应用前景

当行业领导者如英伟达指出“散热是下一代计算平台最大挑战”时,其本质是对高效能热管理方案的迫切需求。随着芯片功率密度的增加,要求基础材料能更快地将热量导离核心区域。

超芯星的技术进展,预示着以下潜在价值——

提升散热效率:采用具备此类高热导率特性的衬底,有望显著提升芯片的散热能力,为设备在更高负载下维持稳定运行提供潜在支持。

面向未来算力需求:此项技术为人工智能、大型数据中心、自动驾驶等对热管理有极致要求的尖端应用,提供了一种富有前景的材料解决方案。

推动产业技术发展:这不仅是材料科学的一次重要探索,也可能为未来高端半导体器件的设计与制造,开辟新的可能性。

(来源:超芯星)