德国的ALLOS半导体公司与中国台湾的晶元光电股份有限公司近日宣布达成战略合作，旨在将用于MicroLED应用的200毫米硅基氮化镓（GaN-on-Si）LED外延片投入量产。此次合作标志着为MicroLED产品建立与硅晶圆厂兼容的供应链迈出了关键一步。
（ALLOS半导体公司与晶元光电宣布就200毫米硅基氮化镓外延片达成战略合作。图片来源：ALLOS半导体公司）
通过此次合作，ALLOS将能够以其行业领先的硅基氮化镓外延片满足客户所需的量产规模，支持客户向MicroLED批量生产过渡。晶元光电将作为ALLOS的制造合作伙伴，负责200毫米硅基氮化镓LED外延片的生产。凭借其全球最大的LED制造基础设施之一，以及在包括MicroLED在内的高端LED技术领域的深厚专业知识，晶元光电是此次合作的理想之选。除制造外，晶元光电还将贡献其先进的LED相关技术，以进一步提升产品性能。
ALLOS联合创始人兼首席执行官Burkhard Slischka表示：“晶元电光是能够为客户提供高质量、可扩展外延片供应并使其充分放量需求的最佳合作伙伴。结合我们的技术，我们能为业界提供最高LED效率与卓越晶圆内及晶圆间良率的最佳组合，用于MicroLED芯片制造。”
晶元光电股份有限公司总经理唐德龙博士表示：“此次合作将提供具有竞争力的硅基氮化镓MicroLED解决方案，并提供了一条与标准硅晶圆厂工艺兼容的可扩展生产途径。通过与ALLOS合作，我们现在能够在提供现有市场领先的MicroLED解决方案的同时，进军200毫米硅基氮化镓LED外延片领域，为快速发展的MicroLED行业提供无与伦比的全面价值主张。”
ALLOS的外延片产品旨在满足MicroLED应用（包括均匀性、消除微缺陷和优化驱动电流）的严格要求。该外延片设计为与标准硅晶圆厂兼容，厚度为725微米，并符合硅产业清洁度和污染标准。
（ALLOS半导体公司的硅基氮化镓外延片，拍摄于ALLOS制造合作伙伴晶元光电的卡匣对卡匣传输模块中。图片来源：晶元光电。)
通过将ALLOS专有的缓冲层和n型氮化镓层与晶元光电尖端的LED层技术相结合，所得到的硅基氮化镓LED外延片在亮度和能效方面可与传统的蓝宝石基氮化镓解决方案相媲美。
“我们与客户拥有共同的愿景，即使用标准硅晶圆厂进行MicroLED制造将实现所需的良率和成本效益，从而使MicroLED的大规模生产在经济上可行，” Burkhard Slischka阐述了公司的业务战略，并补充道，“通过与晶元光电的合作，我们现在可以随着MicroLED产品需求的增长，迅速扩大外延片的生产规模。”
该合作为300毫米硅基氮化镓LED外延片铺平了道路，使其能够与300毫米逻辑晶圆高效集成 – 这对于例如使用MicroLED光源实现AI处理器与存储芯片之间的超高速、高能效光互连至关重要。ALLOS自2020年以来已展示了300毫米技术能力，并持续与领先客户共同完善该技术。欲了解更多信息和产品咨询，请联络ALLOS半导体销售团队。
关于ALLOS半导体
ALLOS半导体有限公司是一家专注于MicroLED应用的硅基氮化镓外延片技术公司。公司成立于2014年，在专为标准的200毫米和300毫米硅晶圆厂设计的硅基氮化镓外延片方面，多次展示了业界最佳的晶体质量和晶圆均匀性。
公司的专有技术受近100项专利保护。ALLOS是唯一一家向全球客户同时供应200毫米和300毫米硅基氮化镓LED外延片的公司。其技术也通过许可和技术转让方式提供。
ALLOS的客户正与晶圆代工厂或内部硅生产线合作，以实现良率和单位成本的突破，并建立用于人工智能的新技术。这些突破是将客户基于MicroLED的解决方案转化为面向AI接口（AR显示）和AI基础设施（光互连与计算）的量产产品的关键因素。
关于晶元光电
晶元光电是集成光电解决方案的领先提供商，专注于III-V族化合物半导体材料的研发与制造。凭借完全垂直整合的供应链 – 从外延、芯片制造到先进封装和模块组装 – 晶元光电为全球客户提供高效、交钥匙解决方案。
作为Micro LED技术的先驱，晶元光电正在加速其商业化进程。其专有工艺实现了高均匀性、高良率和可扩展的大规模生产，这使公司站在了下一代光电创新的前沿。
在“提升现场附加值与解决方案附加值”的双重战略方针指导下，晶元光电正不断演进其业务模式以满足新兴市场需求。通过其“3+1”长期发展战略，公司专注于四个关键领域：汽车、先进显示、智能传感和AI光互连。凭借在Micro LED领域的突破和系统级集成，晶元光电正在塑造一个更明亮、更智能、更可持续的未来。
（来源：ALLOS）