冠石半导体入场首台先进电子束掩模版光刻机

发表于:2024-07-18 来源:半导体产业网 编辑:

 宁波前湾新区管理委员会官网消息,近日,宁波冠石半导体有限公司迎来关键节点,企业引入首台电子束掩模版光刻机。据悉,该设备是光掩模版40纳米技术节点量产及28纳米技术节点研发的重点设备。作为半导体产业链上游重要的原材料之一,光掩模版是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。目前,我国高精度半导体光掩模版产品主要仍依赖于进口,国产化率极低。据冠石相关负责人介绍,企业正加速推进海外布局战略,并在世界一流半导体光掩模版制造技术班底的加持下,预计今年底,企业将陆续实现为国内外中高端集成电路掩模版提供制版服务。